Idea-电池元件镀钼薄膜

发布时间:2021-03-10

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结果分析:XRD图中可以看到,退火后Mo薄膜在40.6°、73.5°、87.3°分别出现了体心立方金属Mo(110)、(211)、(220)晶面衍射峰,说明钼呈现多晶相结构,且(110)衍射峰强度远远大于其他方向,说明Mo薄膜纯度较高,且出现明显的择优取生长

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第二组

实验思路:已成功在硅基底溅射钼薄膜,将基底更换为304电池壳(打磨抛光除去电池壳镀层,并依次使用酒精,去离子水超声清洗,70摄氏度真空烘干24h)

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结果分析:XRD图中可以看到,不锈钢表面出现Mo薄膜,且在40.5°、73.5°分别出现了体心立方金属Mo(110)、(211)晶面衍射峰,说明钼呈现多晶相结构。

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第三组:

实验思路:已成功在电池壳镀膜并检测到有钼薄膜形成,同样条件在二级内部镀膜(镀膜前已使用酒精清洗,并使用无尘布擦拭干净后用热风枪风干)

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  镀膜前                       镀膜后(10min)                   镀膜后(20min)

结果分析:镀膜时间增加,钼薄膜颜色略微加深,使用万用表检测,导通性良好。

第四组:膜性能测试

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结果分析:使用3M胶带粘黏划破后的薄膜,发现破口附近无薄膜脱落,说明膜结合力良好。无水乙醇擦拭前后,钼薄膜无变化,说明膜表面致密性优良,附着力较强。

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2、导电性测试:

实验思路:使用万用表对钼薄膜电阻值进行测试

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结果分析:使用万用表检测两个元件内部镀钼部分电阻均为0。

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结果分析2:打开二极测量装置,发现内部镀膜部分颜色加深,使用抹布擦拭,薄膜无明显脱落痕迹,说明镀膜在电解液作用下防腐效果优良。

参考文献:

[1] https://www.doc88.com/p-7843590246566.html《磁控溅射法制备钼薄膜的研究现状》

[2] https://pdf.hanspub.org/MS20180600000_37174912.pdf《两种钼靶材溅射钼薄膜的组织性能研究》

[3] http://www.xjishu.com/zhuanli/24/201910724611_3.html《钼圆PVD磁控溅射镀膜方法与流程》

特别声明:

1. 以上所有实验仅为初步探究,仅供参考。由于我们水平有限,错误疏漏之处欢迎指出,我们非常期待您的建议。

2. 欢迎您提出其他实验思路,我们来验证。

3. 以上实验案例及数据只针对科晶设备,不具有普遍性。

4. 因为涉及保密问题,以上数据仅为部分数据,欢迎老师与我们联系,我们非常期待和您共同探讨设备的应用技术。


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