1200℃ 4温区坩埚可移动型管式炉
关键字:
4温区、坩埚可移动
型号:
OTF-1200X-IV-HPCVD
产品概述:
OTF-1200X- IV -HPCVD是一款坩埚可在炉管内移动(靠步进电机控制)的4温区管式炉,所有电器元件都通过了UL / MET / CSA认证。炉管外径为50mm,设备最高工作温度为1200℃,每个温区长度为100mmL, 每个温区由独立的温控系统控制,都可设置50段升降温程序,控温精度为+/-1℃。通过触摸屏数字控制器控制样品台或坩埚在炉管内的位置和温度。此设备可进行快速热处理,例如混合物理化学沉积(HPCVD),快
速热蒸发(RTE),以及在各种气氛下进行的水平布里奇曼晶体生长(HDC),用于新一代晶体研究。
免责声明: 本站产品介绍内容(包括产品图片、产品描述、技术参数等)仅用于宣传用途,仅供参考。由于更新不及时和网站不可预知的BUG可能会造成数据与实物的偏差,请勿复制或者截图。如果您对参数有异议,或者想了解产品详细信息及更多参数,请与本公司销售人员联系。本站提供的信息不构成任何要约或承诺,请勿将此参数用于招标文件或者合同,科晶公司会不定期完善和修改网站任何信息,恕不另行通知,请您谅解。 如果您需要下载产品的电子版技术文档,说明书(在线阅览),装箱单,与售后安装条件等文件,请点击上方的附件下载模块中选取。商城产品仅针对大陆地区客户,购买前请与工作人员沟通,以免给您带来不便。
技术参数产品视频实验案例警示/应用提示配件详情
设备名称

1200℃ 4温区坩埚可移动型管式炉-OTF-1200X-IV-HPCVD

产品提示

1.多种配件可选提示  2.科晶实验室邀请提示  3.配件妥善保管提示

主要特点

·炉子配备步进电机,通过触摸屏数字控制器使样品台或坩埚在炉管内移动。

·最高温度可达1200℃。

·双层壳体结构,并带有风冷系统,可有效降低壳体表面温度。

·内炉膛表面涂有美国进口的高温氧化铝涂层可以提高设备的加热效率,同时也可以延长仪器的使用寿命


基本参数

·最高温度: 1200℃(≤30min)工作温度: 1100℃

·推荐升温速率:≤10℃/min

·加热区长度:总长度400mm,四个加热区,每个加热区长度100mm

·加热元件:掺钼铁铬铝合金

·电压:220V

·最大功率为:3.5KW

·通过机械泵可达到75mTorr


真空密封

·高纯石英管50mm外径x44mm内径x 680mm长

·采用KF结构密封法兰,硅胶密封圈密封

·法兰上安装有一个机械压力表

·右端法兰与一个真空不锈钢波纹管连接


PLC控制

·一个直径为1/4"的铠装热电偶(K型),通过法兰伸入到炉管中,并可随坩埚移动,可实时监测样品的实际温度。

·通过步进电机移动炉管内的坩埚(样品台),最大行程为400mm(1#温区至4#温区距离)。

·通过触摸屏设定坩埚一定的距离和目标位置,坩埚移动速度为1-180mm/min

·在热电偶上安装了一个微型石英坩埚舟。

图片16.png  

温控系统

·采用PID方式调节温度,可设置50段升降温程序

·温控仪表中带有过热和断偶保护

·仪表控温精度: +/- 1°C

·热电偶型号:K型


相关产品
公司环境

23453[1].png   微信截图_20220311162937.png

合肥科晶品牌纪录片                                     公司环境

免责声明: 本站产品介绍内容(包括产品图片、产品描述、技术参数等)仅用于宣传用途,仅供参考。由于更新不及时和网站不可预知的BUG可能会造成数据与实物的偏差,请勿复制或者截图。如果您对参数有异议,或者想了解产品详细信息及更多参数,请与本公司销售人员联系。本站提供的信息不构成任何要约或承诺,请勿将此参数用于招标文件或者合同,科晶公司会不定期完善和修改网站任何信息,恕不另行通知,请您谅解。 如果您需要下载产品的电子版技术文档,说明书(在线阅览),装箱单,与售后安装条件等文件,请点击上方的附件下载模块中选取。商城产品仅针对大陆地区客户,购买前请与工作人员沟通,以免给您带来不便。
附件

Copyright © 2019 开云官网 版权所有 皖ICP备09007391号-1     皖公网安备 34012302000974号

在线产品展示

设备销售咨询

晶体销售咨询

售后咨询