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MgO晶体
- 产品概述：
- 氧化镁（MgO）是极好的单晶基片而广泛应用于制作铁电薄膜、磁学薄膜、光电薄膜和高温超导薄膜等，由于它在微波波段的介电常数和损耗都很小，且能得到大面积的基片（直径2英吋及更大），所以是当前产业化的重要高温超导薄膜单晶基片之一。 可用于制作移动通讯设备所需的高温超导微波滤波器等器件。科晶公司用一种特殊的电弧法生长出高纯度的尺寸约2”x2”x 1”的低成本的MgO单晶，采用化学机械抛光制备出高质量原子级表面的基片。
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如果您需要下载产品的电子版技术文档，说明书（在线阅览），装箱单，与售后安装条件等文件，请点击上方的附件下载模块中选取。商城产品仅针对大陆地区客户，购买前请与工作人员沟通，以免给您带来不便。
技术参数产品视频实验案例警示/应用提示配件详情
| 产品名称
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氧化镁(MgO)晶体基片 |
| 技术参数
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晶体结构： | 立方晶系 | 晶格常数： | a=4.216 Å | 密度： | 3.58 g/cm3 | 熔点： | 2850°C | 硬度： | 5.5 mohs | 热膨胀系数： | 8×10-6/k | 光学透过： | > 90% @ 200 ~ 400 nm > 98 %@ 500 ~ 1000 nm | 晶体解理面： | （100） | 介电常数： | 9.8 | 生长方法： | 弧熔法 |
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| 产品规格
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常规晶向： | （100）、（110）、（111） | 晶向公差： | ±0.5° | 常规尺寸： | dia2"x0.5mm, 10x10x0.5mm, 10x5x0.5mm，5x5x0.5mm | 抛光情况： | 单抛、双抛、细磨 | 抛光面粗糙度： | <111> Ra<15A <100>和<110> Ra<5A |
注：尺寸及方向可按照客户要求定做。 |
| 晶体缺陷
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人工生长单晶有可能存在晶体内部缺陷。 |
| 标准包装：
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1000级超净室，100级超净袋或单片盒封装 |
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