1英寸双靶射频磁控溅射镀膜仪—VTC-1RF-II（2021.1.29--科晶实验室审核）

1.多种配件可选提示  2.科晶实验室邀请提示  3.配件妥善保管提示

·小型台式双靶等离子溅射仪(射频磁控型)

·此款设备主要用于制作非导电薄膜，特别是一些氧化物薄膜

·可以配置高压直流电源，适合客户制作一些金属薄膜

·220VAC  50/60Hz,  单相

·1200W  (包括真空泵）

·标配有两套13.5MHz,100W的射频电源（采用手动匹配）

·注意：100W手动调节的RF（射频）电源价格较低，但是每一次对于不同的靶材，都需要手动设置参数才能产生等离子体，比较耗费时间。

·可选配有500W的直流电源（采用手动调节功率和电流）

·两个1英寸磁控溅射头（带有水冷夹层），采用快速接头与真空腔体相连接

·靶材尺寸: 直径为25.4mm,最大厚度3mm

·一个快速挡板安装在法兰上

·溅射头所需冷却水：流速10L/min（仪器中配有一台流速为16L/min的循环水冷机）

·真空腔体：256mm OD x 250mm ID x 276mm H，采用高纯石英制作

·密封法兰:直径为φ274mm .  采用不锈钢制作，采用硅胶密封圈密封

·一个不锈钢网罩住整个石英腔体，以屏蔽等离子体（如下图）

·真空度：<1.0×10-2 Torr （采用双极旋片真空泵）,<5×10-5 torr （采涡旋分子泵）

·如果需要更高真空度，可以定做不锈钢真空腔室（真空度可以达到5*10-6torr以下）

·载样台可旋转（为了制膜更加均匀），并可加热

·载样台尺寸：直径50mm （最大可放置2英寸的基片）

·旋转速度：3- 10 rpm（可调速）

·样品台的最高加热温度为700℃  (短期使用，恒温不超过1小时)，长期使用温度500℃ ，控温精度+/- 5 ℃

·型号：VRD-16

·抽气速率：4.4 L/S

·电机功率：750 W

·极限压强：5×10-1Pa（不带负载）

·一个精密的石英振动薄膜测厚仪安装在仪器上，可实时监测薄膜的厚度，分辨率为0.10 Å  

·LED显示屏显示，同时也输入所制作薄膜的相关数据

一年质保期，终生维护

·此产品已通过CE认证

  证书编号：M.2021.206.C67994

·若客户出认证费用，本公司保证单台设备通过德国TUV认证或CAS认证