2英寸等离子磁控镀膜仪 (可选直流射频电源)
关键字:
单靶、可加热旋转样品台、非导电薄膜
型号:
VTC-2RF
产品概述:
VTC-2RF小型台式单靶等离子溅射仪,配有一个2英寸的磁控等离子溅射头和射频等离子电源。一个可加热的旋转样品台,长期使用温度为500℃,样品台与靶材之间的高度可调节。此款设备主要用于制作非导电薄膜,特别是一些氧化物薄膜。对于新型非导电薄膜的探索,它是一款性价比高并且高效的实验帮手。如果客户需要制作金属薄膜,我们也可以配置高压直流电源,适合客户制作一些金属薄膜。
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设备名称与型号

2英寸等离子磁控镀膜仪 (可选直流射频电源)-VTC-2RF

基本参数

· 电源:AC 220V 50HZ

· 功率:<1800W

射频电源

· 输入电源:220V 3A

· 输出功率:0-300W

· 输出频率:13.56 MHZ

· 冷却方式:设备内部的冷却方式为风冷

· 尺寸:444(长)*410(宽)*128(高)  

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磁控溅射头

· 2英寸磁控溅射头(带有水冷夹层),采用快速接头与真空腔体相连接

· 靶材尺寸要求:φ50*(0.1-5)mm厚

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· 2英寸磁控溅射头可承受最大射频功率:300W

· 2英寸磁控溅射头可承受最大直流功率:500W


溅射腔室

·腔室尺寸:外径φ166*内径φ150*高250mm,采用高纯石英制作

· 密封法兰:直径为174mm 采用金属铝制作,采用胶密封圈密封

·  法兰盖上安装了一个可手动操作的挡板,用于靶材的预溅射,法兰盖上包含一个φ6.35的卡套接头用于连接进气管。

· 一个不锈钢网罩住整个石英腔体以屏蔽等离子体

· 腔室真空度:<1.0×10-2 Torr (采用双极旋片真空泵),<5×10-5 torr (采涡旋分子泵)

· 如果需要更高真空度,可以定做不锈钢真空腔室(真空度可以达到5*10-6torr以下)

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· 腔体进气口为Φ6.35mm的不锈钢双卡套接头,通过聚四氟管可与气瓶连接,并通过一个精密微量调节阀控制进气量的大小。

样品台

· 样品台可旋转(为了制膜更加均匀)并可加热

· 样品台尺寸:直径50mm (最大可放置2英寸的基片)

· 旋转速度:1- 10 rpm(可调速)

· 样品台的最高加热温度为700℃(短期使用,恒温不超过1小时),长期使用温度500℃

· 控温精度±10℃

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真空显示单元

· 真空计型号ZDZ-52T

· 测量范围:1.0×105Pa~1.0×10-1Pa

· 有效范围:3.0×103Pa~1.0×100Pa

· 配接硅管:ZJ-52T/KF16

· 面板尺寸:96*96 mm

· 真空计配套的规管只能测量空气和氮气,有其他气体成分比例较大的场合需另外修正。

真空系统(选配)

· 抽真空接口为KF25接口

· 真空泵型号:VRD-16

· 抽气速率:4.4 L/S

· 电机功率:750 W

· 极限压强:5×10-1Pa(不带负载)

水冷设备(选配)

· 型号:KJ-5000

· 工作电流1.4-2.1A

· 制冷量2361Btu/h

· 尺寸55×28×43cm(长×宽×高)

· 水箱容量:6L

· 水流速率:16L/min

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薄膜测厚仪(可选)  

· 一个精密的石英振动薄膜测厚仪安装在仪器上,可实时监测薄膜的厚度,分辨率为0.10 Å  

· LED显示屏显示,同时也输入所制作薄膜的相关数据

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外形尺寸

设备尺寸:550mm×宽550m×1100mm

炉架尺寸:600mm×宽600m×600mm

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重量

约55KG

保质期

1年(不包密封圈等损耗件)






注意事项

· 腔室内气压不可高于0.02MPa(相对气压);

· 由于气瓶内部气压较高,所以向石英管内通入气体时,气瓶上必须安装减压阀,为了确保安全,建议使用压力低于0.02MPa,建议在本公司选购减压阀,本公司减压阀量程为0.01MPa-0.1MPa,使用时会更加精确安全;

· 对于样品加热的实验,不建议关闭炉管法兰端的抽气阀和进气阀使用。若需要关闭气阀对样品加热,则需时刻关注压力表的示数,若气压表示数大于0.02MPa,必须立刻打开泄气阀,以防意外发生(如炉管破裂,法兰飞出等)

· 我们不建议客户使用易燃易爆和有毒的气体,如果客户工艺原因确实需要使用易燃易爆和有毒气体,请客户自行做好相关防护和防爆措施。由于使用易燃易爆和有毒气体而造成的相关问题,本公司概不负责。


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