小型液体汽化系统 (温度和压力可控, 适用于CVD和DLCVD)
关键字:
CVD实验、薄膜
型号:
LVD-F1
产品概述:
LVD-F1是一款专门针对实验室中CVD实验中导入液体的一套系统,其液体流量是通过一数字液体泵来控制,最小流量控制在0.007ml/min。液体被数字泵导入到混气系统后,被系统里的加热装置加热成蒸汽,然后随导入的气体被带入到炉管中。LVD-F1能够导出多种液体,比如ETOH, SnCl4,TiCl4r, SiHCl3, 和Zn(C2H5)2,还有多种有机物混合。对于研究用CVD方法生长纳米线和薄膜LVD-F1是一款极佳的研究工具。
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技术参数产品视频实验案例警示/应用提示配件详情
设备名称型号

小型液体汽化系统 (温度和压力可控, 适用于CVD和DLCVD)- LVD-F1

产品特点

· 由数字液体泵控制液体流量,最大流量为10ml/min

· 一次不锈钢罐加热最高温度500℃

· 二次加热带加热最高温度为200℃

· 用于材料研究中CVD方法生长纳米线和薄膜的合适设备

基本参数

· 电源:208-240VAC,单相50/60HZ

· 功率:2.2KW

液体流量控制系统

· 前面板上的一个调速旋钮用于调节液体的流量大小,LED显示屏上显示进液速度。注意:显示屏上的数值是数字泵的转速不是流量值请对照换算表换算成流量

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· 精确度:±0.5% F.S

· 流量:0-10ml/min可调

· 最小流量:0.1ml/min

· 设备背面其中一个φ6.35的卡套接头为进液口,将吸液管放置在盛有溶液的容器中,蠕动泵可自动抽取液体。

气体流量控制

· 气体流速通过浮子流量计控制,流量计量程:50-500ml/min

· 安装了一个压力表,可以观察气液混合罐中的气体压强,压力表量程:-0.1-0.15MPa

· 一个不锈钢针阀控制进气的通断,设备背面其中一个φ6.35的卡套接头为进气口,通过四氟管与气瓶相连

加热系统

· 系统中含有两个加热部分,流体和气体会在一个316不锈钢罐中加热,最高温度达到550度,此罐已经安装在壳体中,此温度由温控仪表1控制,测温热偶为K型

· 从混气罐到出气口之间的蒸汽输出管道为不锈钢材质的钢管,加热管最高温度能达到200度,此温度由温控仪表2控制,测温传感器为PT100

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· 温控仪表中带有过热和断偶保护

· 控温精度:±10℃

设备外形尺寸

340mm(L)*350mm(W)*600mm(H)

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重量

约18KG

质保

一年质保期,终身维护(不包含密封圈等易损耗件)


注意事项

· 设备使用时,应先加热。在一次加热管与二次加热管温度达到要求时再打开蠕动泵通入液体

· 在实际使用过程中,根据所需调节流量的大小,过大的流量需要匹配更大的进气量,且如果气压过大,水流量过小也无法产生均匀气体,反之进水量过大,气压过小,可能会伴有水滴产生,影响实际使用效果。

· 连接出气口与需连接的设备时,应注意连接管越短越好,在尽可能的前提下,缩短连接管的长度,过长的连接管可能会导致冷凝的现象,影响实际使用效果。


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