微型原位可视化 CVD/PVD炉(双温区)
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新品 CVD炉 PVD炉
产品概述:
GSL-1100微型原位可视化CVD/PVD炉(双温区),又称为HPCVD。配备有25mm内径石英管并附带观察窗口。石英管内有两个加热板,用于盛放蒸发料与样品。此设备可以放置在光学显微镜或拉曼光谱下,用于原位观察二维薄膜生长,最高可达1100ºC。
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电源

1000W 220V/AC 

特点

1.可原位实时观察样品

2.兼具CVD/PVD功能

3.采用双陶瓷板样品台加热

4.两温区独立控温


炉体结构


· 特制石英管:外径 30 x 内径 25 x 长370(mm), 一个直径 12 mm 的扁平高透光率窗口焊接在管子上,用于原位观察薄膜生长

· 真空密封法兰:包括电极、热电偶、带 KF   25 真空端口的气体入口和出口的馈通件

· 微加热板:两个 W17 x L 25 mm 的陶瓷涂层加热板从两端插入加工管中。左侧加热板可调。

· 最高加热温度:1100℃,最大升温速率:5℃/S

· 法兰支架高度可调

   



温度控制


· 两个具有 50 段可编程的温度控制器,用于独立控制两个加热板

· 内置PID自动调谐功能

· 具有热电偶过热保护与损坏报警功能

· ±1℃温度精度

· 两个K型热电偶(每个区域一个)

   



可选配件

· 耐腐蚀数字真空计

· 双级旋片真空泵

· 可选质量流量控制器(0-2L/min


尺寸

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保修

· 一年保修,提供提升时间支持(炉管和O形圈等耗材不在保修范围内)

笔记本电脑,软件和WIFI控制(可选)


· 可配备电脑进行控制

· 基于Labview的自研温度控制系统   (EQ-MTS01) 。使用户能够编辑,记录,储存温度曲线等数据

   



认证

· CE认证

· UL,NRTL或CSA认证需额外收费


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