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高真空腔体
- 型号：
- HVC-SS
- 产品概述：
- 这是一个预制多功能真空腔体，可以根据客户需求定制，例如作为真空溅射腔体（可在顶部添加多个溅射靶头），CVD,ALD等等。同时，也可以单独作为一个高真空储存盒使用。
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技术参数产品视频实验案例警示/应用提示配件详情
| 腔体
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·304不锈钢制造，并配备有加强筋 ·内部尺寸：470mm L×445mm D×522mm H ·配备φ380 mm 密封门，配备150 mm玻璃观察窗 ·采用硅胶O型密封圈 ·工作温度范围： -15 to 150°C
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| 真空/压力
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·E-3 torr 使用机械泵，具体型号请点击 ·4E-5使用分子泵，具体型号请点击
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| 接口/配套装置
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·在腔体的右侧安装有一个KF40接口，用于连接真空泵 ·共计4个KF25接口，三个在腔体右侧一个在左侧 ·共计三个用于充放气的真阀，两个在在腔体后面，一个在左侧 ·顶部盖板可以开启，用于连接客户定制的设备 ·接口与阀门可以按照客户的要求进行定制   
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| 应用
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·磁控溅射腔体： 一个完整的磁控溅射系统包含：1个真空腔体，磁控溅射靶头，溅射电源（DC or RF）,真空泵系统（机械泵或者分子泵），水冷系统。 图示为一个使用真空腔体搭建的完成磁控溅射系统（DC/RF可切换） 此真空腔体可以安装单个或者多个溅射靶头。最多安装3个2"靶头或5个1"靶头。 如果您有定制需求，请联系我们对靶头匹配等事宜进行讨论，我们可以在真空腔体上根据您的需求安装好靶头。 
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| 应用案例
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·可安装3个2"靶头或5个1"靶头   
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| 可选
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·请点击图1选择通用的真空配件，点击图2选择可以摆放此腔体的真空泵系统点击 图3选择相关磁控溅射配件   
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| 尺寸
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| 质保
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·质保一年
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