| 设备名称 | 小型粉末PVD溅射仪(配直流磁控溅射,样平台可振动)- VTC-16-PW |
| 主要特点 | ▪ 可对粉体材料进行表面包覆：采用磁控溅射，溅射时粉体材料在振动样品台上翻滚，达到粉体表面均匀包覆； ▪ 设备小巧可在手套箱内使用（需订货时说明另配KF40馈通），可处理对氧敏感性材料 ▪ 可抽真空、通气氛 ▪ PLC集成的控制系统 ▪ 标配石英腔室、等离子磁控溅射靶头，靶材溅射挡板 ▪ 具有水冷系统，用于冷却溅射头 ▪ 可搭配薄膜测厚仪一起使用（选配） |
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操作视频 |
| 输入电源 | 220V，50/60HZ |
| 输入功率 | < 1000W |
| 输出电压 | DC 700V |
| 溅射电流 | 0-150mA |
| 溅射时间 | < 15min |
| 石英腔室尺寸 | 外径166mm*内径150mm*高260mm
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| 外形尺寸和重量 | 660mm*370mm*830mm（长*宽*高），重量：33Kg（不含泵）
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| 震动样品台 | 震动样品台安装在真空腔体底部 ▪ 尺寸：直径Φ2”(50.8mm) ▪ 震动电机转速：400-2500r/min可调 ▪ 震动电机每次工作时间 ≤15min（＜2000r/min），＜10min（2000-2500r/min） ▪ 样品台每次溅射最大粉末量：2g（氧化铝粉） ▪ 粉末颗粒度范围：在1μm和1mm之间 |
| 靶材 | ▪ 适合溅射金、银、铝、铜、钛等金属，对样品的损伤和温升比较少 ▪ 靶材直径：2英寸 ▪ 靶材和样品台之间的距离50-80mm可调 |
| 靶材溅射挡板 | 一个手动操作挡板，用于保护靶材 ▪ 尺寸：直径50mm ▪ 可调节位置 |
| 溅射头 | 2英寸角度可调节溅射头，带有水冷夹层 溅射头与样品台距离可调节，调节范围为60-100mm 设备中配有一循环水冷机（流量16L/min）,用于冷却溅射头 |
| 控制面板 | 6英寸控制面板，可显示和设置所有参数，如真空和电流 |
| 真空系统 | ▪ 抽真空接口为KF25接口 ▪ 进气口为Φ6.35mm的不锈钢.卡套接头，通过聚四氟管可与气瓶连接 ▪ 含一个控制进气的针阀和一个放气阀 ▪ 极限真空度： 机械泵< 2 pa 分子泵< 5.0*10^-3 pa ▪ 设备标配一个皮拉尼真空计，测量范围从5*10-4毫巴——1000毫巴
可选配更高精度的数显防腐真空计 PCG-555 |
| 水冷系统 | 设备需要通入冷却水，磁控靶头及薄膜测厚仪探头均需水冷 |
| 薄膜测厚仪 （选配） | ▪ 电源：DC5V，最大电流400mA ▪ 最高精度：±0.5% ▪ 测试速度：100ms-1S/次 可设置 ▪ 最大测量厚度：100000 Å ▪ 可与计算机连接 |
| 质量认证 | ▪ 此产品已通过CE认证 证书编号：M.2021.206.C67994 若客户出认证费用，本公司保证单台设备通过德国TUV认证或CAS认证。
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| 国家专利 | 专利名称：一种粉末磁控溅射仪 专利号：ZL 2019 2 1911199.8 尊重原创、鄙视抄袭、侵权必究。 |
样品：SiC粉末、镍靶
实验图片：
溅射中 溅射后的石英玻璃
溅射后的粉末 溅射前后粉末对比
检测图片：
溅射后的SiC粉末呈金属色，在电镜下可观测到，大部分粉末表面均匀包覆一层膜状物质.
特别声明：
1. 以上所有实验仅为初步探究，仅供参考。由于我们水平有限，错误疏漏之处欢迎指出，我们非常期待您的建议。
2. 欢迎您提出其他实验思路，我们来验证。
3. 以上实验案例及数据只针对科晶设备，不具有普遍性。
4. 因为涉及保密问题，以上数据仅为部分数据，欢迎老师与我们联系，我们非常期待和您共同探讨设备的应用技术。
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皖公网安备 34012302000974号
