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1200℃ 4温区坩埚可移动型管式炉
- 关键字：
- 4温区、坩埚可移动
- 型号：
- OTF-1200X-IV-HPCVD
- 产品概述：
- OTF-1200X- IV -HPCVD是一款坩埚可在炉管内移动（靠步进电机控制）的4温区管式炉，所有电器元件都通过了UL / MET / CSA认证。炉管外径为50mm,设备最高工作温度为1200℃，每个温区长度为100mmL, 每个温区由独立的温控系统控制，都可设置50段升降温程序，控温精度为+/-1℃。通过触摸屏数字控制器控制样品台或坩埚在炉管内的位置和温度。此设备可进行快速热处理，例如混合物理化学沉积（HPCVD），快
速热蒸发（RTE），以及在各种气氛下进行的水平布里奇曼晶体生长（HDC），用于新一代晶体研究。
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技术参数产品视频实验案例警示/应用提示配件详情
| 设备名称
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1200℃ 4温区坩埚可移动型管式炉-OTF-1200X-IV-HPCVD |
| 产品提示
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1.多种配件可选提示 2.科晶实验室邀请提示 3.配件妥善保管提示 |
| 主要特点
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·炉子配备步进电机，通过触摸屏数字控制器使样品台或坩埚在炉管内移动。 ·最高温度可达1200℃。 ·双层壳体结构，并带有风冷系统，可有效降低壳体表面温度。 ·内炉膛表面涂有美国进口的高温氧化铝涂层可以提高设备的加热效率，同时也可以延长仪器的使用寿命。
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| 基本参数
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·最高温度: 1200℃（≤30min）工作温度: 1100℃ ·推荐升温速率:≤10℃/min ·加热区长度：总长度400mm,四个加热区，每个加热区长度100mm ·加热元件：掺钼铁铬铝合金 ·电压：220V ·最大功率为：3.5KW ·通过机械泵可达到75mTorr
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| 真空密封
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·高纯石英管50mm外径x44mm内径x 680mm长 ·采用KF结构密封法兰，硅胶密封圈密封 ·法兰上安装有一个机械压力表 ·右端法兰与一个真空不锈钢波纹管连接
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| PLC控制
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·一个直径为1/4＂的铠装热电偶（K型），通过法兰伸入到炉管中，并可随坩埚移动，可实时监测样品的实际温度。 ·通过步进电机移动炉管内的坩埚（样品台），最大行程为400mm(1#温区至4#温区距离）。 ·通过触摸屏设定坩埚一定的距离和目标位置，坩埚移动速度为1-180mm/min ·在热电偶上安装了一个微型石英坩埚舟。 
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| 温控系统
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·采用PID方式调节温度，可设置50段升降温程序 ·温控仪表中带有过热和断偶保护 ·仪表控温精度: +/- 1°C ·热电偶型号：K型
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