2019年1月6日湖南卫视新闻联播播出湖南大学王双印教授领衔的催化剂缺陷化学研究项目目前处于全球领先水平，目前该项技术已经进入工厂测试验证阶段。在新闻中播放的王双印教授的实验室中出现了合肥科晶的设备身影：

点击查看完整视频（第10：07分出现）

   视频中出现了合肥科晶的加热炉以及PECVD系统。目前公司共拥有十几种不同型号的PECVD系统，客户可根据需求进行选择。同时公司亦接受非标产品方案的定制，公司的模块化思想可方便客户的搭建需求，更容易实现客户的定制方案。

视频中的科晶设备：

(1)PECVD系统

型号：OTF-1200X-50S-PE-SL

部分参数：连续工作最高温度：1000℃；尺寸：1500mm L*600mm W*1200mm H

(点击图片或链接了解更多详情)（/product/16689.html）

(2)箱式加热炉

型号：KSL-1200X

部分参数：炉腔容积：7.2L；最高加热温度：1200℃；加热炉尺寸：440mm L*530mm W*530mm H

(点击图片或链接了解更多详情)（/product/16847.html）

更多PECVD系统：

(点击图片或链接了解更多详情)（/product/15840/list.html）

等离子体增强化学气相沉积（PECVD）技术：

   等离子体增强化学气相沉积（Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition，简称PECVD）技术是借助于辉光放电等离子体使含有薄膜组成的气态物质发生化学反应，从而实现薄膜材料生长的一种新的制备技术。由于PECVD技术是通过反应气体放电来制备薄膜的，有效地利用了非平衡等离子体的反应特征，从根本上改变了反应体系的能量供给方式。

   一般说来,采用PECVD技术制备薄膜材料时，薄膜的生长主要包含以下三个基本过程：

   首先，在非平衡等离子体中，电子与反应气体发生初级反应，使得反应气体发生分解，形成离子和活性基团的混合物；

   其二，各种活性基团向薄膜生长表面和管壁扩散输运，同时发生各反应物之间的次级反应；

   最后，到达生长表面的各种初级反应和次级反应产物被吸附并与表面发生反应，同时伴随有气相分子物的再放出。

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